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磁控濺射成膜設備

磁控濺射成膜設備 Sputtering-01

產品詳情 咨詢金童

?Sputtering ES-350-small ??Sputtering ES-350 System

??日本超真空技術的完美體現;

??可達到10E-8Pa超高真空;

??適合永磁材料等非氧化物薄膜材料研究,

也適用于鐵電材料等各類薄膜材料;

??薄膜生長速率穩定,膜厚精確控制;



??雙層靶構造;

??可同時放置9個靶材;

??配置靶材遮擋板;

multiple target


?accessary

??備選部件靈活搭配;

??按客戶需求定制;

??先進的自控系統;


other sputtering systems

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